电子工业专用设备杂志介绍
电子工业专用设备杂志是由中国电子科技集团公司主管、中国电子科技集团公司第四十五研究所主办的专业性学术期刊,自1971年创刊以来,以双月刊的形式定期出版,确保读者能够及时接触到电子领域的最新动态和研究成果,为电子界提供了一个深入探讨和交流的平台,促进知识的共享与思想的碰撞。该杂志的H指数为17,立即指数0.0219,引用半衰期4.4773,期刊他引率0.8286,平均引文率4.1825,这些指标综合体现了该杂志在学术出版领域的表现和对知识传播的重要贡献。电子工业专用设备致力于将最新的电子政策解读、电子理论与实践以及电子成果转化案例分析等前沿内容呈现给广大读者。作为自然科学与工程技术领域内的综合类期刊,读者对象为以从事电子的科研、教学的高、中级人员,研究生,以及相关专业的电子工作者为主要读者对象。本刊主要栏目设有先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养等栏目。本刊已被收录于知网收录(中)、维普收录(中)、万方收录(中)、国家图书馆馆藏、上海图书馆馆藏,反映了本刊在学术领域内的卓越地位和影响力。欢迎来自不同学科背景的作者投稿,共同推动期刊电子领域的研究与发展。
年度被引次数报告(学术成果产出及被引变化趋势)
2014
2015
2016
2017
2018
2019
2020
2021
2022
本刊文章发表的年份
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
2007
在2014年的被引次数
7
34
26
21
30
27
17
21
被本刊自己引用的次数
1
10
8
2
8
3
0
8
被引次数的累积百分比
0.0261
0.153
0.25
0.3284
0.4403
0.541
0.6045
0.6828
本刊文章发表的年份
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
2008
在2015年的被引次数
5
18
28
25
29
34
25
20
被本刊自己引用的次数
1
4
5
6
3
9
4
2
被引次数的累积百分比
0.0188
0.0865
0.1917
0.2857
0.3947
0.5226
0.6165
0.6917
本刊文章发表的年份
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
2009
在2016年的被引次数
5
17
24
32
23
27
30
20
被本刊自己引用的次数
1
2
6
5
3
6
7
1
被引次数的累积百分比
0.0174
0.0767
0.1603
0.2718
0.3519
0.446
0.5505
0.6202
本刊文章发表的年份
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
2010
在2017年的被引次数
1
21
16
22
23
15
16
10
被本刊自己引用的次数
0
6
0
2
2
1
2
1
被引次数的累积百分比
0.0043
0.0948
0.1638
0.2586
0.3578
0.4224
0.4914
0.5345
本刊文章发表的年份
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
2011
在2018年的被引次数
1
13
17
21
25
28
20
21
被本刊自己引用的次数
0
3
3
0
2
1
1
3
被引次数的累积百分比
0.0036
0.0511
0.1131
0.1898
0.281
0.3832
0.4562
0.5328
本刊文章发表的年份
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
在2019年的被引次数
2
25
21
24
21
23
36
11
被本刊自己引用的次数
0
3
5
3
4
2
3
2
被引次数的累积百分比
0.0066
0.0897
0.1595
0.2392
0.309
0.3854
0.505
0.5415
本刊文章发表的年份
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
在2020年的被引次数
3
25
18
13
10
21
23
17
被本刊自己引用的次数
1
4
2
0
0
1
4
4
被引次数的累积百分比
0.011
0.1029
0.1691
0.2169
0.2537
0.3309
0.4154
0.4779
本刊文章发表的年份
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
在2021年的被引次数
4
33
23
34
15
19
17
26
被本刊自己引用的次数
1
5
4
3
1
0
1
1
被引次数的累积百分比
0.0119
0.1098
0.178
0.2789
0.3234
0.3798
0.4303
0.5074
本刊文章发表的年份
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
在2022年的被引次数
4
42
26
25
22
6
24
14
被本刊自己引用的次数
1
10
4
1
1
1
4
2
被引次数的累积百分比
0.0126
0.1447
0.2264
0.305
0.3742
0.3931
0.4686
0.5126
发文分析
一级发文领域名称 |
发文量 |
电子电信 |
4211 |
经济管理 |
1325 |
自动化与计算机技术 |
670 |
电气工程 |
286 |
机械工程 |
239 |
金属学及工艺 |
166 |
化学工程 |
131 |
一般工业技术 |
111 |
轻工技术与工程 |
83 |
冶金工程 |
67 |
二级发文领域名称 |
发文量 |
电子电信 / 物理电子学 |
2260 |
经济管理 / 产业经济 |
1070 |
电子电信 / 微电子学与固体电子... |
890 |
电子电信 / 电路与系统 |
490 |
自动化与计算机技术 / 计算机科... |
459 |
电子电信 / 信息与通信工程 |
435 |
自动化与计算机技术 / 计算机系... |
243 |
电子电信 / 通信与信息系统 |
217 |
自动化与计算机技术 / 控制科学... |
208 |
自动化与计算机技术 / 检测技术... |
197 |
注:期刊的一级和二级发文领域是期刊定位和学术分类的重要工具。一级发文领域通常指的是期刊所覆盖的最广泛的学术领域或学科类别。这些领域通常是非常广泛的,涵盖了多个子学科和研究方向。二级发文领域是指在一级领域之下更为具体的学科或研究方向。它们是一级领域的细分。二级领域通常更加专注于特定的研究主题或问题,反映了期刊更细致的学术定位。
电子工业专用设备期刊文献
-
晶体硅太阳能电池效率异常分析与研究
关键词:太阳能电池 效率异常 伏安特性 等效电路 电性能参数;
-
MOCVD反应室模拟仿真研究
关键词:有限元 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) 反应室 流场;
-
LPCVD法淀积SiO2薄膜的影响因素分析
关键词:低压力化学气相沉积法 薄膜 淀积 正硅酸乙酯源;
-
锗晶片磨削用砂轮研究
关键词:锗晶片 磨削 砂轮 砂轮自锐;
-
3D NAND闪存制造所面临的硅晶圆斜面缺陷挑战和解决方案
关键词:芯片尺寸 缺陷密度 NAND闪存 硅晶圆 良率 颗粒污染 沉积层 3D;
-
清洗设备远程通讯控制的实现方法
关键词:套接字 数据库 数据通信接口 半导体标准通讯协议;
-
面向QFN封装视觉定位系统
关键词:全自动划片机 相似度 搜索策略 最小二乘法;
-
微波多芯片组件自动贴片常见故障及处理
关键词:贴片机 微波多芯片组件 自动贴片 故障;
-
全球半导体设备销售额2020年反弹,2021年创历史新高
关键词:半导体设备 预测报告 历史峰值 半导体制造设备 SEMI 历史新高 设备制造商 销售额;
-
高效率光刻机系统设计
关键词:光刻机 系统设计 生产效率;
电子工业专用设备杂志 在线订阅 正版保障
出版周期:双月刊;所属类别:自然科学与工程技术
全年订价:¥256.00
,地址:北京市朝阳区安贞西里26号浙江大厦913室,邮编:100029。